日本DENSOKU電測QNIx系列

更容易測量麻煩的薄膜厚度
便攜式薄膜厚度計(jì)，提高生產(chǎn)效率

QNIx系列產(chǎn)品只需一個(gè)超輕便的緊湊型儀器和探頭即可測量薄膜厚度，無需攜帶厚膜厚度計(jì)。
無線測量無電纜。 測量數(shù)據(jù)可以很容易地傳輸?shù)絺€(gè)人計(jì)算機(jī)，并有助于防止測量期間墜落事故。

QNIx系列的特點(diǎn)
無需膠片校準(zhǔn)即可測量薄膜厚度

提供出廠時(shí)輸入的16點(diǎn)校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。這消除了對麻煩的膠片校準(zhǔn)工作的需要并且能夠進(jìn)行的膜厚度測量。

薄膜厚度測量數(shù)據(jù)傳輸?shù)男录夹g(shù)

傳統(tǒng)的測量儀器通過將測量儀器和PC與電纜連接來傳輸測量數(shù)據(jù)。 QNIx系列使用“無線Dongle”，只需將其插入U(xiǎn)SB端口即可進(jìn)行傳輸。可以快速輕松地查看測量數(shù)據(jù)。

超輕型無線測量儀器

探頭測量的數(shù)據(jù)無線傳輸?shù)街鳈C(jī)。降低像常規(guī)產(chǎn)品一樣被抓住或妨礙并導(dǎo)致事故的風(fēng)險(xiǎn)。此外，探頭重30克，無需攜帶重型儀器。

探頭難以斷裂，不會在工件上留下痕跡

QNIx系列探頭被增強(qiáng)塑料包圍，耐用性提高了30％。即使它發(fā)生故障，也可以輕松拆卸和維修，縮短維修周期。此外，還附有紅寶石芯片，可在不損壞樣品（樣品）的情況下進(jìn)行安全測量。

便攜式薄膜厚度計(jì)型號代碼指導(dǎo)

[F]黑色金屬材料的非磁性薄膜厚度測量

[N]對有色金屬材料的非導(dǎo)電薄膜厚度測量

[FN]使用單個(gè)探針測量黑色和有色金屬材料的薄膜厚度

[T]微探針

[M]測量數(shù)據(jù)存儲功能，數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

日本DENSOKU電測Beta線膜厚度計(jì)BTC-221

從薄到厚
新系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)高精度測量

·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)大大提高了可操作性和功能。
·高精度地測量薄到厚的物體
·也可以測量小面積
·輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線
·計(jì)數(shù)校正很容易，不需要GM管預(yù)熱

β線膜厚度計(jì)BTC-221的特點(diǎn)
大大提高了可操作性和功能

使用個(gè)人計(jì)算機(jī)可以大大提高可用性和功能。

從薄到厚的物體測量，精度高

通過改變輻射源，可以高精度地從薄物體到厚物體進(jìn)行測量。

可以測量小面積

可以通過更換面罩來測量小面積。有各種口罩可供選擇。

輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線

可以進(jìn)行多點(diǎn)校準(zhǔn)輸入（2到9個(gè)點(diǎn)），并且可以輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線。

輕松計(jì)數(shù)校正

可以隨時(shí)進(jìn)行計(jì)數(shù)校正，并且可以在不加熱GM管的情況下進(jìn)行高精度測量。

多可存儲40條用于測量的校準(zhǔn)曲線

多可存儲40條用于測量的校準(zhǔn)曲線。存儲的校準(zhǔn)曲線可以復(fù)制到其他通道。

校準(zhǔn)曲線可以通過材料的單點(diǎn)校正進(jìn)行重新校準(zhǔn)

校準(zhǔn)曲線可以通過材料的單點(diǎn)校正進(jìn)行重新校準(zhǔn)。

設(shè)置上限和下限

您可以設(shè)置有效測量值的上限?6?7?6?7和下限。

測量膜厚度和組成比

合金膜可以測量膜厚度和組成比。

可以在直徑為80mm或更大的管道中進(jìn)行測量

如果φ80mm或更大，則可以在管道中進(jìn)行測量。

可以隨時(shí)刪除由于測量誤差導(dǎo)致的薄膜厚度值

可以隨時(shí)刪除由測量誤差引起的膜厚值。

時(shí)間和單位可以任意設(shè)定

測量時(shí)間可以任意設(shè)置1至999秒。可以隨時(shí)更改測量單位，μm，MI，mil，成分％和計(jì)數(shù)％，并自動轉(zhuǎn)換測量值。

測定原理

當(dāng)物質(zhì)被β射線照射時(shí)，其部分被吸收并且其一部分被透射。 有些是透明的。 一些向后散射，劑量根據(jù)材料的厚度和外來電子的數(shù)量（電子數(shù)量）而變化。 由于隨著厚度增加直到其達(dá)到不能檢測到劑量增加的飽和厚度，反向散射量增加（或減少），所以可以通過比較基板的反向散射量與涂層的反向散射量來測量厚度。你。
因此，隨著基板和涂層之間的原子序數(shù)的差異增加，測量精度增加，并且隨著原子序數(shù)的差異減小，測量精度降低。 如果原子序數(shù)差至少為10％，則可以測量薄膜。

日本DENSOKU電測電阻膜厚度計(jì)RST-231

操作簡單，時(shí)間短（0.7秒）

高精度測量絕緣體上的金屬薄膜

·在0.7秒內(nèi)測量絕緣體上的金屬膜
·使用PC輕松查看屏幕
·易于校準(zhǔn)和測量
- 可以立即查看組件圖和配置文件
·異常值檢測功能

電阻膜厚度計(jì)RST-231的特點(diǎn)
在0.7秒內(nèi)測量絕緣體上的金屬膜

在短時(shí)間（0.7秒）內(nèi)高精度地測量絕緣體上的金屬膜（絕緣銅箔，電鍍等）。

易于閱讀的屏幕配置

使用PC時(shí)，屏幕結(jié)構(gòu)大而明亮，易于查看。

易于校準(zhǔn)和測量

易于校準(zhǔn)和測量。可以選擇兩種類型的測量范圍（2至24μm，10至120μm）。

可以立即看到各種數(shù)字

統(tǒng)計(jì)處理后，立即可以使用直方圖，配置文件和x-R圖表。

異常值檢測功能

如果設(shè)置上下薄膜厚度限制，將通知您異常值。

支持每個(gè)探頭的更換

如果探頭損壞，可以更換每個(gè)探頭，并且可以低成本進(jìn)行維修。

易于統(tǒng)計(jì)處理

可以為每個(gè)通道保存測量數(shù)據(jù)，并且可以稍后為測量數(shù)據(jù)設(shè)置統(tǒng)計(jì)項(xiàng)以執(zhí)行統(tǒng)計(jì)處理。

多可注冊40個(gè)頻道

多可注冊40個(gè)通道，因此您可以通過用戶名或部件號單獨(dú)注冊來管理通道。

支持每個(gè)探頭的更換

使用四探針探針（開爾文型），并且可以高精度地測量雙面和多層基板，而不受背面和內(nèi)層的影響。

 

測定原理

探頭有四個(gè)直立的金屬銷（探頭）。使這四個(gè)探針與待測量的絕緣體上的金屬箔或金屬電鍍表面接觸。 恒定電流（I）通過兩個(gè)外部探針并測量電壓（V）。 接觸探針的金屬箔或金屬鍍層的厚度（T）可以在某些條件下使用下式計(jì)算。T = K×I÷V其中K是常數(shù)因此，可以通過測量兩個(gè)內(nèi)探針之間的電壓來測量金屬箔或金屬鍍層的厚度。

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)D-20

小巧便攜
薄膜厚度計(jì)，可以滿足短時(shí)間測量的時(shí)代需求

·重量輕，結(jié)構(gòu)緊湊，重量為2.0kg
·一旦開關(guān)打開，測量就開始，測量時(shí)間在1秒之內(nèi)。
·晶體振蕩法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無需轉(zhuǎn)換

渦流膜厚度計(jì)D-20的特點(diǎn)
輕巧緊湊

你可以攜帶它。

可立即測量

可以在開關(guān)打開的同時(shí)進(jìn)行測量。測量時(shí)間也在1秒內(nèi)。

高穩(wěn)定性（±1％）高精度

通過晶體振蕩方法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因?yàn)樗欠瞧茐男缘摹?/p>

無需轉(zhuǎn)換

不需要直接轉(zhuǎn)換。

兼容各種測量

可以在金屬上測量薄膜，電鍍，涂漆，樹脂等（例如：在鋁上鍍氧化膜，在鐵上鍍鋅等）。

成為的測量儀器

只需更換刻度盤，它就成了的測量儀器。

測量面積3m2以上

兼容3m2或更大的測量區(qū)域。

還測量非金屬上的金屬膜

可以測量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

即使在曲面，球體和管道內(nèi)也可以進(jìn)行測量

即使對于彎曲和球形表面也可以進(jìn)行測量。它還可以測量管道的內(nèi)表面（φ12.7mm或更大）。

測定原理

當(dāng)已經(jīng)通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 這種高頻電阻的變化被放大并顯示在儀表上。 通過這樣做，可以從儀表的波動中讀取膜厚度值。 薄膜厚度值和儀表跳動通常不成比例，因此使用直讀刻度板直接讀取薄膜厚度值。

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)DS-110

晶體振蕩精度高
可以在短的測量時(shí)間內(nèi)測量曲面和球面

·測量值顯示數(shù)字且易于閱讀
·一旦開關(guān)打開，測量就開始，測量時(shí)間在1秒之內(nèi)。
·晶體振蕩法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無需轉(zhuǎn)換

渦流膜厚度計(jì)DS-110的特點(diǎn)
易于閱讀數(shù)字

測量值顯示是數(shù)字的，易于閱讀。

可立即測量

可以在開關(guān)打開的同時(shí)進(jìn)行測量。測量時(shí)間也在1秒內(nèi)。

高穩(wěn)定性（±1％）高精度

通過晶體振蕩方法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因?yàn)樗欠瞧茐男缘摹?/p>

無需轉(zhuǎn)換

不需要直接轉(zhuǎn)換。

兼容各種測量

可以測量金屬上的薄膜，電鍍，涂層，樹脂等。 （例如：在鋁上鍍鋅，在鐵上鍍鋅等）

多可保存1000個(gè)數(shù)據(jù)

可以使用一條檢測線保存1000個(gè)數(shù)據(jù)。

還測量非金屬上的金屬膜

可以測量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

可以測量4種標(biāo)準(zhǔn)和多70種薄膜厚度。

通過切換開關(guān)，可以測量多達(dá)4種類型的薄膜厚度。此外，通過更換制造商處的檢查線，可以測量超過70種類型的膜厚度。

即使在曲面，球體和管道內(nèi)也可以進(jìn)行測量

即使對于彎曲和球形表面也可以進(jìn)行測量。它還可以測量管道的內(nèi)表面（φ12.7mm或更大）。

打印輸出功能

打印出測量數(shù)據(jù)和統(tǒng)計(jì)處理值

測定原理

當(dāng)已經(jīng)通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 高頻電阻值的這種變化被放大，曲線校正，并顯示為數(shù)字值。 因此，膜厚度值可以直接讀取為數(shù)字。 通過微計(jì)算機(jī)計(jì)算執(zhí)行曲線校正。 因此，它非常準(zhǔn)確且高度穩(wěn)定

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)DMC-211

高速和可操作性
短時(shí)非破壞性測量是100％檢測的理想選擇

·1秒內(nèi)無損測量，100％檢測
·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)輕松校準(zhǔn)和測量操作
·只需將探頭放在物體上并釋放它，即可自動捕獲測量值
-70特性曲線（校準(zhǔn)曲線）作為標(biāo)準(zhǔn)
·為每個(gè)渠道注冊公司名稱，部件號和批號。

渦流膜厚度計(jì)DMC-211的特點(diǎn)
數(shù)字顯示測量值，讀數(shù)

幾乎所有金屬薄膜（鋁上的氧化膜，鐵上的鋅/鉻鍍層等），非金屬上的大多數(shù)金屬薄膜（塑料上的電鍍等）在短時(shí)間內(nèi)（1秒內(nèi)）無損測量，非常適合100％檢測。

使用PC輕松操作

通過使用個(gè)人計(jì)算機(jī)進(jìn)行校準(zhǔn)和測量等簡單操作?？梢赃x擇各種測量模式，便于測量螺釘頭，線材和壓鑄產(chǎn)品等小零件。

配備[自動導(dǎo)入]模式

在[自動采集]模式下，只需將探頭放在待測物體上并松開即可自動獲取測量值。

豐富的特征曲線記憶（校準(zhǔn)曲線）

70個(gè)自動選擇特性曲線（校準(zhǔn)曲線）作為標(biāo)準(zhǔn)存儲。對于特殊材料，如果有標(biāo)準(zhǔn)板，則可以創(chuàng)建并輸入新的特征曲線（校準(zhǔn)曲線）。

公司信息渠道注冊功能

可以為每個(gè)渠道注冊公司名稱，部件號和批號。
總頻道：40個(gè)頻道

配備統(tǒng)計(jì)處理功能

可以為每個(gè)通道保存測量數(shù)據(jù)，并且可以在以后統(tǒng)計(jì)設(shè)置和統(tǒng)計(jì)統(tǒng)計(jì)項(xiàng)目。

計(jì)量單位

測量單位是mm，μm，mil，MI。
可以隨時(shí)更改設(shè)備，并自動轉(zhuǎn)換測量值。

測定原理

當(dāng)已經(jīng)通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 這種高頻電阻變化的幅度通常與薄膜厚度值不成比例，因此它會根據(jù)內(nèi)部或用戶創(chuàng)建的特性曲線（校準(zhǔn)曲線）轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值并顯示在PC屏幕上。顯示量。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計(jì)CT-3

重量輕，機(jī)身小巧

各種電鍍測量的高可操作性和功能性

·輕巧，緊湊的機(jī)身，體重3.0kg
·可從任何電鍍范圍測量
·增加了高靈敏度范圍
·校準(zhǔn)范圍寬達(dá)±15％
·C墊片范圍的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備

電解膜厚度計(jì)CT-3的特點(diǎn)
輕巧緊湊

輕巧，極其緊湊的機(jī)身，體重3.0kg。

增加了高靈敏度范圍

靈敏度可以設(shè)置為比以前的型號更高的靈敏度，并且可以提高測量穩(wěn)定性。

廣泛的校準(zhǔn)范圍

通過標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)的校準(zhǔn)范圍寬達(dá)±15％。

可以達(dá)到1/100的范圍

可以處理Au，Cr等的薄膜電鍍的1/100范圍（以0.001μm為單位的測量）是可能的。

三種類型的墊圈范圍是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備

有三種類型的墊圈可供選擇：3.4φ，2.4φ和1.7φ。

主動功能

有源功能可以去除一些氧化膜，從而減少氧化膜引起的測量失敗
我能做到

易于設(shè)置范圍

由于使用了所有刻度盤設(shè)置，因此可以輕松實(shí)現(xiàn)要測量的鍍層的適合設(shè)置。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計(jì)CT-4

0.006至300微米，各種厚度
多層電鍍測量，精度高

·易于操作，易于閱讀的屏幕
·電流精度明顯高于以前
·可以確認(rèn)測量部件的表面處理方法
·多層涂層可設(shè)置多達(dá)5種測量條件
·多可注冊50個(gè)測量通道

電解膜厚度計(jì)CT-4的特點(diǎn)
易于操作，易于閱讀的屏幕

屏幕大，明亮，易于查看，易于操作。

提高電流精度

目前的準(zhǔn)確度已得到顯著改善。

可以檢查表面處理方法

您可以檢查測量部件的表面處理方法。

測量條件多可設(shè)置為5層

多層涂層可以設(shè)置多達(dá)5種測量條件。

多可注冊50個(gè)頻道

多可以注冊50個(gè)測量通道。

可分別測量純錫層和合金錫層

對于純錫層和合金錫層，可以分別測量鍍錫。

自動顯示所用電解質(zhì)的類型

所用電解質(zhì)的類型根據(jù)薄膜和基材的組合自動顯示。

內(nèi)置統(tǒng)計(jì)處理功能

通過統(tǒng)計(jì)處理功能，可以在屏幕上顯示數(shù)據(jù)。

5種數(shù)據(jù)處理方法

有五種數(shù)據(jù)處理方法。

用日文打印

打印機(jī)使用熱敏卷紙，可以用日文打印。

每單位面積的重量計(jì)算

您可以計(jì)算每單位面積的重量。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計(jì)GCT-311

Windows規(guī)范，
全功能可測量多達(dá)5層

·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)，操作簡單，功能增強(qiáng)
- 使用Windows規(guī)范輕松處理數(shù)據(jù)
·多可注冊50個(gè)測量通道
·多層涂層可設(shè)置多達(dá)5種測量條件
·發(fā)生異常值時(shí)，以紅色和警告聲音報(bào)告測量值。

電解膜厚度計(jì)GCT-311的特點(diǎn)
改進(jìn)了可操作性和增強(qiáng)功能

使用個(gè)人計(jì)算機(jī)可改善可操作性和功能。

輕松的數(shù)據(jù)處理

使用Windows規(guī)范可以輕松進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。

多可注冊50個(gè)頻道

多可以注冊50個(gè)測量通道。

多層涂層，多5層

多層涂層可以設(shè)置多達(dá)5種測量條件。

發(fā)生異常值時(shí)內(nèi)置警告功能

當(dāng)由于上限和下限設(shè)置而發(fā)生異常值時(shí)，測量值將顯示為紅色并顯示警告聲。

自動顯示所用電解質(zhì)的類型

所用電解質(zhì)的類型根據(jù)薄膜和基材的組合自動顯示。

輕松確認(rèn)顯示處理方法

您可以檢查測量單元的顯示處理方法。

可分別測量純錫層和合金錫層

對于純錫層和合金錫層，可以單獨(dú)測量“錫/銅”測量。

輕松測量雙鎳和三鎳之間的電位差

通過使用參比電極（可選）和電位圖測量，可以容易地測量雙鎳和三鎳之間的電位差。

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計(jì)COSMOS-3X

節(jié)省空間小
極小的部件，具有出色的可操作性
以高精度測量

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進(jìn)行測量
- 即使在使用多任務(wù)功能進(jìn)行測量期間，也可以進(jìn)行其他處理，包括創(chuàng)建報(bào)告。
·小準(zhǔn)直器為0.05mm，可以測量極小的部件

X射線熒光膜厚度計(jì)COSMOS-3X的特點(diǎn)
采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測量，以便始終獲得高精度。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執(zhí)行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過準(zhǔn)直器改變尺寸。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項(xiàng)，可以在Cr測量和Ni測量中重復(fù)測量精度
將大大改善。

關(guān)于績效改進(jìn)的評論

高能量（高原子序數(shù)）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。
有你。因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測量。






 

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計(jì)EX-731

以高精度測量極小部件，具有出色的可操作性
可以測量大尺寸的基礎(chǔ)

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進(jìn)行測量
- 通過將鼠標(biāo)定位在測量位置來實(shí)現(xiàn)快速定位
- 即使在使用多任務(wù)功能進(jìn)行測量期間，也可以進(jìn)行其他處理，包括創(chuàng)建報(bào)告。
·小準(zhǔn)直器為0.05mm，可以測量極小的部件

X-7熒光膜厚度計(jì)EX-731的特點(diǎn)
采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測量，以便始終獲得高精度。

自動測量階段

通過將鼠標(biāo)移動到測量位置來實(shí)現(xiàn)快速定位。此外，如果您注冊測量位置，則可以進(jìn)行連續(xù)自動測量。通過坐標(biāo)校正和通道鏈接支持各種模式。標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)也可以自動測量。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執(zhí)行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過準(zhǔn)直器改變尺寸。

目測顯示被測物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項(xiàng)，可以在Cr測量和Ni測量中重復(fù)測量精度將大大改善。

關(guān)于績效改進(jìn)的評論

高能量（高原子序數(shù)）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。
有你。因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測量。
請考慮采用這種Be窗口X射線管。

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計(jì)EX-851

自動對焦
可以選擇兩種測量模式，使測量工作更加順暢

全自動對焦模式
⇒用激光指示器設(shè)置要照射的物體并關(guān)閉門。
舞臺自動移動和測量。
·半自動對焦模式
⇒以與上面的全自動對焦模式相同的方式設(shè)置測量對象。
¡當(dāng)門關(guān)閉時(shí)，舞臺自動移動并聚焦。
直到手術(shù)。

X-8熒光膜厚度計(jì)EX-851的特點(diǎn)
自動對焦

只需將測量部件移動到激光指示器的位置，然后關(guān)閉門以自動移動到測量值并執(zhí)行測量。測量后，當(dāng)門打開時(shí)，舞臺自動返回到前面。

自動測量階段

通過將鼠標(biāo)移動到測量位置來實(shí)現(xiàn)快速定位。此外，如果您注冊測量位置，則可以進(jìn)行連續(xù)自動測量。通過坐標(biāo)校正和通道鏈接支持各種模式。標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)也可以自動測量。

采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測量，以便始終獲得高精度。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執(zhí)行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過準(zhǔn)直器改變尺寸。

目測顯示被測物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項(xiàng)，可以在Cr測量和Ni測量中重復(fù)測量精度將大大改善。

關(guān)于績效改進(jìn)的評論

 高能量（高原子序數(shù)）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。

因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測量。
請考慮采用這種Be窗口X射線管。